Лазерны газ у асноўным выкарыстоўваецца для лазернага адпалу і літаграфічнага газу ў электроннай прамысловасці. Дзякуючы інавацыям у галіне экранаў мабільных тэлефонаў і пашырэнню абласцей прымянення, рынак нізкатэмпературнага полікрэмнію будзе пашырацца, а працэс лазернага адпалу значна палепшыў прадукцыйнасць транзістараў. Сярод неонавых, фторавых і аргонавых газаў, якія выкарыстоўваюцца ў эксімерным лазеры ArF для вытворчасці паўправаднікоў, неон складае больш за 96% лазернай газавай сумесі. З удасканаленнем паўправадніковай тэхналогіі выкарыстанне эксімерных лазераў павялічылася, а ўкараненне тэхналогіі двайной экспазіцыі прывяло да рэзкага павелічэння попыту на неонавы газ, які спажываецца эксімернымі лазерамі ArF. Дзякуючы садзейнічанню лакалізацыі спецыяльных электронных газаў, айчынныя вытворцы атрымаюць лепшыя магчымасці для росту рынку ў будучыні.
Літаграфічная машына з'яўляецца асноўным абсталяваннем для вытворчасці паўправаднікоў. Літаграфія вызначае памер транзістараў. Каардынаванае развіццё ланцужка літаграфічнай прамысловасці з'яўляецца ключом да прарыву літаграфічных машын. Адпаведныя паўправадніковыя матэрыялы, такія як фотарэзіст, фоталітаграфічны газ, фоташаблон, а таксама абсталяванне для пакрыцця і праяўлення, маюць высокую тэхналагічную складнік. Літаграфічны газ - гэта газ, які генеруе глыбокі ультрафіялетавы лазер літаграфічнай машынай. Розныя літаграфічныя газы могуць ствараць крыніцы святла рознай даўжыні хвалі, і іх даўжыня хвалі непасрэдна ўплывае на раздзяляльную здольнасць літаграфічнай машыны, якая з'яўляецца адной з асноўных літаграфічных машын. У 2020 годзе агульны аб'ём сусветных продажаў літаграфічных машын складзе 413 адзінак, з якіх 258 адзінак будуць прададзеныя ASML, 30% - Canon і 33 адзінкі - Nikon.
Час публікацыі: 15 кастрычніка 2021 г.
