Сера гексафторид-гэта газ з выдатнымі ізаляцыйнымі ўласцівасцямі і часта выкарыстоўваецца ў высокачатачнай дуговай вогнетушыцелі і трансфарматары, высокаклетарныя лініі перадачы, трансфарматары і г.д. Аднак у дадатак да гэтых функцый, гексафторыд Sulfur таксама можа выкарыстоўвацца ў якасці электроннага эталу. Электронная сера высокай чысціні гексафторид-ідэальны электронны этон, які шырока выкарыстоўваецца ў галіне тэхналогіі мікраэлектронікі. Сёння спецыяльны рэдактар газу Niu Ruide Ююэ ўвядзе прымяненне гексафторыду серы ў тручэнні сіліконавага нітрыду і ўплыў розных параметраў.
We discuss the SF6 plasma etching SiNx process, including changing the plasma power, the gas ratio of SF6/He and adding the cationic gas O2, discussing its influence on the etching rate of the SiNx element protection layer of TFT, and using plasma radiation The spectrometer analyzes the concentration changes of each species in SF6/He, SF6/He/O2 plasma and the SF6 dissociation rate, і вывучае сувязь паміж зменай хуткасці тручэння SINX і канцэнтрацыяй відаў плазмы.
Даследаванні паказалі, што калі магутнасць плазмы павялічваецца, хуткасць тручэння павялічваецца; Калі хуткасць патоку SF6 у плазме павялічваецца, канцэнтрацыя F атама павялічваецца і станоўча карэлюецца з хуткасцю тручэння. Акрамя таго, пасля дадання катыённага газу O2 пад фіксаваным агульным расходам, гэта прывядзе да павелічэння хуткасці тручэння, але пры розных каэфіцыентах патоку O2/SF6, будуць розныя механізмы рэакцыі, якія можна падзяліць на тры часткі: (1) каэфіцыент патоку O2/SF6 вельмі малы, O2 можа дапамагчы дысацыяцыі SF6, а хуткасць у гэты час у гэтым часу не дадаецца. (2) Калі каэфіцыент патоку O2/SF6 перавышае 0,2 да інтэрвалу, які набліжаецца да 1, у гэты час, з -за вялікай колькасці дысацыяцыі SF6, утвараючы атамы F, хуткасць тручэння з'яўляецца самай высокай; Але ў той жа час атамы O у плазме таксама павялічваюцца, і лёгка сфармаваць SIOX або Sinxo (YX) з паверхняй плёнкі SINX, і чым больш атамаў O, тым складаней будуць атамы F для рэакцыі тручэння. Такім чынам, хуткасць тручэння пачынае запавольвацца, калі суадносіны O2/SF6 блізка да 1. (3), калі суадносіны O2/SF6 перавышае 1, хуткасць тручэння памяншаецца. З -за вялікага павелічэння O2, дысацыяваныя атамы F сутыкаюцца з O2 і формай, што памяншае канцэнтрацыю атамаў F, што прыводзіць да зніжэння хуткасці тручэння. З гэтага відаць, што пры даданні O2 суадносіны патоку O2/SF6 складае ад 0,2 да 0,8, і можна атрымаць лепшую хуткасць тручэння.
Час паведамлення: 06-2021 снежня
