Тэхналогія сухога травлення з'яўляецца адным з ключавых працэсаў. Газ для сухога травлення з'яўляецца ключавым матэрыялам у вытворчасці паўправаднікоў і важнай крыніцай газу для плазменнага травлення. Яго характарыстыкі непасрэдна ўплываюць на якасць і прадукцыйнасць канчатковага прадукту. У гэтым артыкуле ў асноўным распавядаецца пра тое, якія газы для травлення найбольш часта выкарыстоўваюцца ў працэсе сухога травлення.
Газы на аснове фтору: такія яктэтрафтарыд вугляроду (CF4), гексафторэтан (C2F6), трыфторметан (CHF3) і перфторпрапан (C3F8). Гэтыя газы могуць эфектыўна генераваць лятучыя фтарыды пры травленні крэмнію і крэмніевых злучэнняў, тым самым дасягаючы выдалення матэрыялу.
Газы на аснове хлору: такія як хлор (Cl2),трыхларыд бору (BCl3)і тэтрахларыд крэмнію (SiCl4). Газы на аснове хлору могуць забяспечваць іёны хларыду падчас працэсу травлення, што дапамагае палепшыць хуткасць і селектыўнасць травлення.
Газы на аснове брому: такія як бром (Br2) і ёдыд брому (IBr). Газы на аснове брому могуць забяспечыць лепшыя вынікі травлення ў некаторых працэсах травлення, асабліва пры травленні цвёрдых матэрыялаў, такіх як карбід крэмнію.
Газы на аснове азоту і кіслароду: такія як трыфтарыд азоту (NF3) і кісларод (O2). Гэтыя газы звычайна выкарыстоўваюцца для рэгулявання ўмоў рэакцыі ў працэсе травлення з мэтай паляпшэння селектыўнасці і накіраванасці травлення.
Гэтыя газы дасягаюць дакладнага травлення паверхні матэрыялу дзякуючы спалучэнню фізічнага распылення і хімічных рэакцый падчас плазменнага травлення. Выбар травільнага газу залежыць ад тыпу матэрыялу, які падлягае травленню, патрабаванняў да селектыўнасці травлення і жаданай хуткасці травлення.
Час публікацыі: 8 лютага 2025 г.
